適用范圍

液晶顯示器件、觸摸屏、半導體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料

主要材料：ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等

使用紫外線清洗時要注意以下幾個方面：（1） 污垢中的無極成分或處理后的灰分會殘留在物體表面，因此需要采用相應的辦法進一步**，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。（2）處理時，當清洗對象表面與照射光源距離稍遠時，產(chǎn)生的臭氧會自動分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺或傳送帶上工件的高度或厚度。（3）這種處理方法要求紫外線能透過清洗對象表面，對有立體結構的清洗對象不太適合，只能清洗表面結構的物體。（4）由于需防止臭氧擴散對人體造成損害，需要在封閉裝置中進行清洗。（5）由于臭氧是通過氧化反應去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。