適用范圍

液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板、光學(xué)器件、石英晶體、密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料

主要材料：ITO玻璃、光學(xué)玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅芯片和帶有氧化膜的金屬等進(jìn)行精密清洗處理?？梢匀コ酃福河袡C(jī)性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹(shù)脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤(rùn)滑油、殘余的光刻膠 

使用紫外線清洗時(shí)要注意以下幾個(gè)方面：（1） 污垢中的無(wú)極成分或處理后的灰分會(huì)殘留在物體表面，因此需要采用相應(yīng)的辦法進(jìn)一步**，如加裝真空除塵或與超聲波干洗配套使用。（2）處理時(shí)，當(dāng)清洗對(duì)象表面與照射光源距離稍遠(yuǎn)時(shí)，產(chǎn)生的臭氧會(huì)自動(dòng)分解失去作用，一定要注意清洗表面與光源的距離，也就是注意平臺(tái)或傳送帶上工件的高度或厚度。（3）這種處理方法要求紫外線能透過(guò)清洗對(duì)象表面，對(duì)有立體結(jié)構(gòu)的清洗對(duì)象不太適合，只能清洗表面結(jié)構(gòu)的物體。（4）由于需防止臭氧擴(kuò)散對(duì)人體造成損害，需要在封閉裝置中進(jìn)行清洗。（5）由于臭氧是通過(guò)氧化反應(yīng)去除污垢的，所以容易被氧化的表面不能用這種方法處理。